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石墨烯制備系統(tǒng)(CVD)

描述:石墨烯制備系統(tǒng)(CVD)主要用于合成石墨烯薄膜和各種碳納米材料,有一個(gè)水平石英管式爐。一個(gè)催化劑襯底(通常是銅鋁箔)放置在爐里,甲烷氣體或乙炔氣體從外部低流量和低壓地注入,在催化劑的襯托上形成石墨烯薄膜。

更新時(shí)間:2024-07-04
產(chǎn)品型號(hào):
廠商性質(zhì):代理商
詳情介紹
品牌其他品牌供貨周期現(xiàn)貨
應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池

石墨烯制備系統(tǒng)(CVD)主要用于合成石墨烯薄膜和各種碳納米材料,有一個(gè)水平石英管式爐。一個(gè)催化劑襯底(通常是銅鋁箔)放置在爐里,甲烷氣體或乙炔氣體從外部低流量和低壓地注入,在催化劑的襯托上形成石墨烯薄膜。
快速冷卻對(duì)于形成高質(zhì)量的石墨烯薄膜非常重要,快速冷卻可以抑制碳過量的沉積在催化劑金屬箔上 (如銅或鎳箔);系統(tǒng)配備了快速冷卻系統(tǒng)。管式爐向一側(cè)滑動(dòng)30mm到反應(yīng)爐,加熱的爐可以遠(yuǎn)離樣品,從而快速冷卻樣品。通過非常簡單的方式達(dá)到快速冷卻的效果。

石墨烯制備系統(tǒng)(CVD)


主要特點(diǎn):
1)快速加熱和制冷功能;
2)管式爐滑動(dòng)裝置,可使得樣品快速加熱和冷卻;
3)特殊設(shè)計(jì)的測溫傳感器,可直接監(jiān)測樣品溫度;
4)支持生長其他各種碳納米材料(碳納米管、碳納米線等);

技術(shù)指標(biāo):

1)石英管尺寸:OD50×ID46×L1200mm

2)加熱區(qū)尺寸:φ50×L260mm

3)操作溫度:up to 1200 ℃

4)正常使用溫度范圍:400-1100 ℃

5)程序化PID溫度控制

6)三路氣體源MFC控制 (hydrocarbon, H2, Ar)

7)旋轉(zhuǎn)真空泵,抽速20L/min

8)熱電偶實(shí)時(shí)監(jiān)測樣品溫度

9)快速加熱和制冷系統(tǒng)

10)手動(dòng)管式爐滑動(dòng)系統(tǒng),滑動(dòng)距離300mm

11)設(shè)備尺寸:W1400×H1000×D500mm


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